Patents

Materiale din EVA (copolimer etilen-vinil-acetat) obtinute prin metode noi, complexe de reticulare a elastomerilor prin iradiere cu electroni accelerati in prezenta de monomeri polifunctionali.

Autori: 
Manaila Elena, Stelescu Maria Daniela, Martin Diana, Craciun Gabriela, Ighigeanu Daniel Paul, Matei Constantin
Anul: 
2009

Hydrogen RF-plasma and laser processing of structural defects in silicon facilitating the lift-off of single-crystal layers thinner than 50 nm.

Autori: 
C. Ghica, L. C. Nistor, V. S. Teodorescu, S. Vizireanu, N. D. Scarisoreanu
Anul: 
2009

Strat antireflex dur din carbon cu legaturi tip diamantifer (DLC- Diamond-Like Carbon) obtinut prin metoda arcului termoionic in vid (TVA)

Autori: 
Lungu Petrica Cristian, Mustata Ion, Zaroschi Valer Nicolae, Sobetkii Arcadie, Cirstoiu Florentina, Vladut Gabriel Catalin, Matei Virginia
Anul: 
2009

Dispozitiv de obtinere a unei densitati stationare de vapori din materiale cu punct de topire ridicat,

Autori: 
Vladoiu Rodica, Ciupina Victor, Musa Geavit,Lungu Cristian Petrica, Zaroschi Valer
Anul: 
2009

Lampe a decharge pour GDS a champ magnetique axial

Autori: 
M.Ganciu-Petcu, M.V.Udrea, A.Tempez, P.Chapon
Anul: 
2009

Procedeu de structurare periodica a straturilor subtiri oxidice sol-gel prin procesare cu radiatie coerenta laser in regim de puls

Autori: 
Teodorescu Valentin, Nistor Leona, Ghica Corneliu, Dinescu Maria, Scarisoreanu Nicu
Anul: 
2009

Lampa descarcare pentru un spectrometru "glow discharge" cu camp magnetic axial

Autori: 
Mihai GANCIU PETCU, Mircea UDREA, Agnès TEMPEZ, Patrick CHAPON
Anul: 
2009

LAMPE À DÉCHARGE POUR GDS À CHAMP MAGNÉTIQUE AXIAL

Lampa descarcare pentru un spectrometru "glow discharge" cu camp magnetic axial

Source magnétron pour spectromètre à décharge luminescente

Autori: 
M. Ganciu Petcu, C. Diplasu, A. Surmeian, A. Groza, A. Tempez, P.Chapon, M.Casares, O.Rogerieux
Anul: 
2009

Glow discharge lamp for glow discharge emission spectrometer, has generating unit for generating magnetic field, and presenting high parallelism degree to surface of sample so as to expose plasma, between surface of sample and plasma

Autori: 
CASARES M, CHAPON P, DIPLASU C, GANCIU P M, GROZA A L, ROGERIEUX O, SURMEIAN A, TEMPEZ A
Anul: 
2009
Emite continut